第44章 给老杨上眼药
仓耀祖对于光刻技术的发展还是很了解的，无论是沉浸式光刻，还是极紫外光刻EUV，不过，仓耀祖手里没人啊。看来得去忽悠忽悠老杨。给老杨上上眼药。
说到光刻技术，还不能不提英特尔，那句Intel Pentium inside的广告很牛逼啊，给电脑一颗奔腾的芯，嘿嘿，不行，还得和英特尔捣捣乱。
仓耀祖直接找上了老杨的办公室，并不是杨崇山，他只能算小杨，老杨是清大的校长杨斯正，然后直接开撩，不对，是聊：“老杨啊，不用二十年，国内的半导体进口数值肯定会突破5000亿华夏元的规模，全球半导体产值最少会突破3万亿华夏元，这么大的盘子，咱们不能拱手让人啊，这么大的蛋糕，咱们要是只能看着却吃不着，你们清大就是国家的罪人啊。”
“你就不是罪人吗？”
“我当然不是了，我可不是搞半导体的。”
“好吧，你确实不是搞半导体的。可是光刻机这一块儿可不好搞啊。人家有先发优势的，现在是市场经济，大家都是利益为先。我们这边研究出来一代光刻机，人家就把比我们更强更便宜的光刻机卖进国内来了，他们是良性循环，咱们是恶性循环。研发就陷入了无水之源，投入不起啊。企业们也都抱着造不如买，买不如租的思想，根本不想投入研发啊。”
“老杨啊，你知道温水煮青蛙吗？咱华夏就是这只青蛙啊，等到光刻机的研发彻底断档断代，人家不卖给你了呢，不但机器不卖给你，芯片都不卖给你了呢，你应该知道，冷战啊，贸易战啊，局部战争啊，这些发生的概率是100%的，到时候，断炊的那些企业会不会戳你们清大以及华科院的脊梁骨骂娘啊。”
“到那时候啊，我都退休了，说不定还入土了，骂也骂不到我的头上。”
“呵呵，就算你听不到，也会把你挂在历史的耻辱柱上。趋利避害确实是企业的市场本能，可国家能和企业一样的思维吗？大学能和企业一样的思维吗？这么发展下去，咱们华夏的半导体行业就会变成一头只知道耕地的牛，鼻环却握在别人的手里，你说这事儿吓人不？”
“别和我说这些大道理了，我懂得比你多，你小子就和我说怎么办吧，我知道你这是又要搞事情了，来，来，我老杨等着，等着你拿钱砸死我。”
“美死你，凭什么我拿钱啊，我拿得起吗我？那5千亿，上万亿的市场又不给我，我犯不上，正所谓在其位谋其政，我既不是国家领导，又不是清大校长，让我拿钱？我拿不着啊。我啊，今天就是给你出出主意，好让你啊以后的几十年能过得问心无愧。”
“好，好，你说吧，只要你的主意有用，我就是去求爷爷告奶奶，去作揖下跪，我都去把钱弄来。”
“用不着，你们那么多校友呢，你看燕邮募集来多少钱了啊，你们这体量，不可能募集不来一些资金啊，先启动了再说呗，后面有国家有银行呢。要打破这个怪圈，只有两个办法，一个是国家死命砸钱根本不管怎么亏，亏一年能亏出去个5000亿吗？亏不了。这样集中力量办大事，发动能发动的一切力量，不按套路出牌，超速发展，一举追上他们。第二个办法就是等，等领先者遇到瓶颈了，他们有个坎儿很难迈过去，而你又咬紧牙关砸钱亏钱追，肯定能追上。”
“你说得轻巧，国家现在哪儿哪儿都是窟窿，哪儿哪儿都要发展，半导体这个行业不是靠投入就能投出来的。你第二个办法更不靠谱。”
“第一个办法要有力度，最大的力度。第二个办法还真就靠谱，他们马上就要碰到坎儿了。业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，而157nm将成为主流技术。然而，157nm光刻技术遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。这是由于绝大多数材料都会强烈地吸收157nm的光波，所以这个就是他们的坎儿。”
“你仔细和我说说。”
“现在国外几家大厂都是使用DUV，也就是深紫外光，通过氟化氪KrF 准分子激光来产生波长248 nm的光，这种光刻机是现在的主流，他们实验室里现在已经基本研发完了通过氟化氩ArF准分子激光来产生波长193 nm光波的下一代光刻机，193nm光刻机没问题。但用F2准分子激光产生波长157nm的光就是个大坑了，他们过不去了，技术解决不了。瓶颈出现了，咱们追赶的机会来了。”
“那他们的解决办法是什么？”
“研发EUV光刻机，也就是极紫外光刻技术。极紫外光刻使用波长在13.5nm的软X射线来光刻，相当于用了一把更小、更锋利的‘刀’。极紫外光刻是5nm等更先进制程的必需工艺。但因为EUV不能穿透透镜，只能用特殊的反射镜来对焦，这样EUV的能量损失会很大，需要更长的曝光时间，会严重影响生产速度，这也就是EUV光刻机难以大规模量产的原因。因此我确信EUV光刻技术15年内完成不了原型机，20年内量产无望。”
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